BM9 - InterMETAL

60 METROLOGIA é a sua prontidão na entrega, pelo que não perdemos clientes devido a longas esperas pelas peças". Para precisão a nível nanométrico, a VAD utiliza o sistema de leitor laser RLE da Renishaw para o controlo de informação de posição de uma plata- forma XY, concebida para a inspeção demáscaras de semicondutores através de luz ultravioleta extrema. O sistema RLE utiliza espelhos planos montados em cada eixo linear e é adequado para aplicações de vácuo, visto que a cabeça laser pode ser instalada fora da câmara de vácuo. Song acrescenta: “A Renishaw dispo- nibiliza-nos soluções de posição de alto desempenho acessíveis, e propor- ciona-nos um serviço técnico e uma formação periódica excelentes. O leitor laser RLE proporciona precisão nano- métrica a todos os equipamentos de processamento de semicondutores e tem vantagens adicionais, como a facilidade de instalação e configura- ção e uns prazos de entrega curtos”. A VAD testa e calibra os seus produtos antes de abandonarem a fábrica com o sistema laser XL-80 da Renishaw para calibração de máquinas e controlo de qualidade. Estes sistemas são rápi- dos, leves, portáteis e extremamente precisos, com precisões de medição linear inferiores a ±0,5 ppm. OS RESULTADOS A combinação de leitores da série Tonic, do sistema de leitor laser RLE e do sistema de interferómetro laser XL-80 da Renishaw proporciona à VAD uma solução de metrologia integrada avançada para as suas plataformas de movimento. Emaplicações de vácuo, o Sistema leitor UHV Tonic. Plataforma de vácuo para inspeção de placas de semicondutores (AOI), equipada com o sistema de leitor laser RLE. leitor UHV Tonic com régua de 20 μm de passo RELM (ZeroMet) proporciona uma precisão absoluta de ±1 μm por metro e um coeficiente de expansão térmica de apenas 0,75 ±0,35 μm/m/°C (a 20 °C). A régua é instalada com fita autoadesiva ou por meios mecânicos para evitar a desgaseificação do ade- sivo na câmara de vácuo. O leitor laser RLE tem uma resolução excecional de apenas 38,6 picómetros e um erro de não-linearidade do sistema (SDE) de apenas ±1 nm. Song acrescenta: “Estamos oti- mistas sobre a procura futura de equipamentos de aplicação em vácuo, especialmente, equipamentos de pro- cessos industriais de precisão no fabrico de FPD semicondutores. Atualmente, a VAD está a desenvolver plataformas de processos relacionados para estas aplicações”. n